HelioSphera A.E. Παραγωγή Φωτοβολταϊκών Υψηλής Τεχνολογίας στην Ελλάδα Δρ. Αλέξανδρος Ζαχαρίου, Απρίλιος 2010 Λ. Κηφισίας 37A (Golden Hall - Κτίριο A) 151 23, Μαρούσι   T: +30 210 6412009 E: info@heliosphera.com | W: www.heliosphera.com

Ν.3468/06 & 3734/09: Εγγυημένη FiT (0,40-0,50 €/kWh). Πού βρισκόμαστε σήμερα; Ν.3468/06 & 3734/09: Εγγυημένη FiT (0,40-0,50 €/kWh). Κίνητρα εγκαταστάσεων στον Οικιακό Τομέα (0,55 €/kWh για 25 χρόνια). Εν αναμονή νέου νόμου (προς ψήφιση στη Βουλή τον Απρίλιο 2010), που θα απλοποιεί την αδειοδοτική διαδικασία. Προσαρμογή του Αναπτυξιακού Νόμου στα νέα δεδομένα τιμών (φορολογικά κίνητρα;)

Ανάπτυξη της ελληνικής αγοράς την τελευταία 10ετία

Σενάρια ανάπτυξης έως το 2020

Γενικές πληροφορίες - HelioSphera Εταιρία Κεντρικά γραφεία στην Αθήνα Ίδρυση το 2007 για την ανάπτυξη μονάδας παραγωγής 60MWp thin film στην Τρίπολη Έναρξη παραγωγής Q4 2009 πλήρης δυναμικότητα Q4 2010 160+ θέσεις εργασίας, 200+ κατασκευαστικές θέσεις εργασίας 30 μηχανικοί της Oerlikon για 2 χρόνια στην Τρίπολη 500.000 πλαίσια/χρόνο, 1.000 φορτηγά/χρόνο Τεχνολογία Oerlikon Solar micromorph Μεγαλύτερη μονάδα παραγωγής micromorph στον κόσμο προσφέροντας συνδυασμό υψηλής απόδοσης (~9.3%) και μέγεθος πλαισίου (μέχρι 130 Wp/πλαίσιο) Προμήθεια πλήρους γραμμής και υποστήριξη στη λειτουργία της Ελβετικής Oerlikon Ανταγωνιστικό κόστος BOS Τεχνολογία Διοίκηση Έμπειρη ομάδα διοίκησης και ισχυροί επενδυτές CEO (ex-McKinsey, Goldman Sachs), COO (ex-Viohalco Group) and CFO (ex-Arthur Andersen, Friesland Royal Hatziioannou Group ) Επενδυτές: Plainfield Asset Management, Sciens Capital και Γ. Φακίδης Επένδυση 193εκ.€ επενδυμένο κεφάλαιο 97 εκ. € τραπεζικό δάνειο 66 εκ. € ίδια κεφάλαια ιδρυτών 30 εκ. € κρατική επιδότηση

Εγκαταστάσεις HelioSphera στην Τρίπολη Clean Room Μονάδες παραγωγής Oerlikon Πλατφόρμα φορτώσεων

Πλεονεκτήματα τεχνολογίας Micromorph Κρυσταλλικό CdTe Διαθεσιμότητα πρώτων υλών    Τοξικότητα πρώτων υλών Δυνατότητα μείωσης κόστους παραγωγής Ευρύ φάσμα απορρόφησης ηλ. ακτινοβολίας Συντελεστής θερμ. -> υψηλότερες αποδόσεις σε θερμά κλίματα Υψηλή απόδοση στη διάχυτη ακτινοβολία Φαινόμενο Hot-spot σε συνθήκες μερικής σκίασης Απώλειες στις συνδέσεις στοιχείων του Φ/Β πλαισίου Χωρίς πλαίσιο αλουμινίου Συστήματα στήριξης από ελ. Εταιρίες Κόστος περιφερειακού εξοπλισμού 7

Χαμηλό κόστος παραγωγής Κρυσταλλικά πλαίσια – Σύνθετη παραγωγική διαδικασία Cast (multy) Ingots Pull (mono) Συναρμολόγηση πλαισίων Φ/Β στοιχεία Thin film micromorph – Απλή διαδικασία σε ένα στάδιο Γυαλί Φ/Β πλαίσιο Αυτόματη μονολιθική διαδικασία 2-3 h

Διπλό στρώμα Φ/Β στοιχείων – ευρύτερο φάσμα απορρόφησης Structure μ-morphous Module Positive Effect Two Layers Δομή Δύο στρώσεις: άμορφο & μικροκρυσταλλικό πυρίτιο 50% υψηλότερη απόδοση από τα συμβατικά πλαίσια α-Si Πλεονέκτημα διπλής στρώσης Το άμορφο στρώμα απορροφά το ορατό φάσμα Το μικροκρυσταλλικό απορροφά επιπλέον ακτινοβολία στο υπέρυθρο 1.- Εμπρόσθιο γυαλί 2.- Επίστρωση TCO 3.- Άμορφο πυρίτιο 4.- Μικροκρυσταλλικό πυρίτιο 5.- Οπίσθια ηλεκτρική επαφή 6.- Πολυμερές ενθυλάκωσης 7.- Οπίσθιο γυαλί

Συντελεστής θερμοκρασίας – υψηλότερες αποδόσεις σε θερμά κλίματα 10

Απορρόφηση διάχυτης ακτινοβολίας Μεταβολή +/-30o στην κλίση ή προσανατολισμό έχει αμελητέα επιρροή στην απόδοση των Φ/Β πλαισίων micromorph χάρη στην απορρόφηση της διάχυτης ακτινοβολίας.

Σημαντική έως συνολική απώλεια ισχύος με τη σκίαση ενός μόνο στοιχείου Φαινόμενο Hot-spot λόγω μερικής σκίασης Αδύνατο να σκιαστεί ολόκληρο στοιχείο Η παραγωγή των Thin Film συνεχίζεται ακόμα και σε συνθήκες μερικής σκίασης Αποτροπή φαινομένου hot spot Κρυσταλλικά πλαίσια Σημαντική έως συνολική απώλεια ισχύος με τη σκίαση ενός μόνο στοιχείου Thin Film πλαίσια Μερική απώλεια ισχύος

“Atlas” – Εγκατάσταση στο έδαφος Συστήματα στήριξης “Atlas” – Εγκατάσταση στο έδαφος

“Venus” – Ενσωμάτωση σε στέγες Συστήματα στήριξης “Venus” – Ενσωμάτωση σε στέγες

Κόστος BΟS Cost of BOS is higher with thin film modules due to a lower efficiency, affecting: cost of supporting structures, cabling, labour cost, inverters, etc. Παραδοχές: Εγκατάσταση στο έδαφος, 1 MWp Εγκατάσταση με το κλειδί στο χέρι, περιλαμβάνει έργα πολ. Μηχ., δεν περιλαμβάνει κόστος γης και συντήρηση/λειτουργία

Κίνητρο επένδυσης η ελληνική αγορά – Στόχος >5ΜWp τo 2010 Εξωστρέφεια Κίνητρο επένδυσης η ελληνική αγορά – Στόχος >5ΜWp τo 2010 193εκ€ επένδυση – από τις μεγαλύτερες στην Ελλάδα την τελευταία 10ετία, άντληση ξένων κεφαλαίων Διεθνής εταιρία με συνεργασίες στην Ευρώπη και την Αμερική Σημαντική διείσδυση σε αγορές του εξωτερικού: Γερμανία (σύμβαση 10MWp το 2010, πρώτο έργο 2.77ΜWp σε εξέλιξη) Ιταλία, Γαλλία, Ισπανία, Βέλγιο, Ισραήλ… Δεύτερη μονάδα στην Ελλάδα ή/και στις ΗΠΑ – 180MWp

Ευχαριστώ για την προσοχή σας!